제품 설명
고밀도 텅스텐 기반 타겟은 다음과 같은 특성을 지닌 반도체 산업에서 널리 사용되는 재료입니다.
고순도 텅스텐 타겟은 반도체 장치에서 기능적 전이를 달성하기 위해 산화텅스텐 박막의 중요한 기판입니다. 텅스텐의 융점이 높기 때문에 텅스텐 타겟은 주로 분말 야금 방법으로 제조됩니다. 제조방법은 순도 99.999% 이상, 입자크기 3.{4}}.2μm의 텅스텐 분말을 균일하게 혼합한 후 진공열처리로에 넣어 사전 탈기를 한 후 도입하는 단계를 포함한다. 수소를 제거하고 가스 제거를 위해 계속 가열합니다. 가스 연소 텅스텐 분말은 진공 열간 압착을 통해 1차 소결 단계를 완료합니다. 1차 소결 텅스텐 플레이트는 열간 등압 프레스를 통해 2차 소결 단계를 완료하고; 2차 소결 텅스텐 판의 전체 표면을 기계적으로 가공하여 연삭처리 후 순도 99.999% 이상, 밀도 99% 이상의 고순도 반도체용 텅스텐 타겟소재를 얻습니다. 장점은 고순도, 고밀도 및 낮은 저항입니다.
제품 매개변수
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재료 |
순수 텅스텐 |
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명세서 |
고객의 요청에 따라 모든 종류의 텅스텐 타겟을 처리합니다. |
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응용 분야 |
미세전자장 평판 디스플레이 산업 스토리지 기술 분야 진공 코팅 산업 유리산업 |
고밀도 텅스텐 베이스 타겟 생산 공정:
일반적으로 분말야금법으로 제조됩니다. 먼저, 사전 탈기를 위해 텅스텐 분말을 진공 열처리로에 넣은 다음 수소를 도입하고 탈기를 위해 계속 가열합니다. 둘째, 진공 핫 프레싱을 통해 탈기된 텅스텐 분말의 소결을 완료합니다. 셋째, 1회 소결한다. 소결된 제품을 열간 등압 프레스를 통해 2차 소결한다. 넷째, 2차 소결품의 전체 표면을 기계적 가공을 통해 연마하여 제품을 얻는다. 참고: 1) 텅스텐 분말의 순도는 99.999% 이상이어야 하며 입자 크기는 3.2-4.2μm 사이여야 합니다.
사진 세부 정보 표시
응용 분야
제품 적용 분야
고밀도 텅스텐 베이스 타겟
반도체 산업
태양광 산업
의료용 CT 장비
희토류 영구자석 산업
배송 및 서비스 제공
서빙 : 상품의 품질에 문제가 있을 경우 반품이 가능합니다.
자주하는 질문
1. 샘플을 제공해 주실 수 있나요?
네, 무료 샘플을 제공해 드릴 수 있습니다.
2. 어느 사이즈에 재고가 있나요?
귀하의 요청에 따라 언제든지 주문할 수 있습니다.
3. 맞춤식을 받아들이나요?
예, 고객의 요청에 따라 모든 종류의 텅스텐 타겟을 처리합니다.
4. 배송 기간은 어떻게 되나요?
DHL, UPS, TNT, FedEx, EMS, 5-8일 도착 예정입니다.
5. 배달 시간은 언제입니까?
재고가 없는 경우 수량에 따라 1-2일이 소요됩니다.
회사 프로필
Shaanxi Ehisen Technology Co., Ltd.는 완전한 금속 가공 산업 체인의 장점을 지닌 "중국의 티타늄 밸리"로 알려진 산시성 바오지시에 본사를 두고 있습니다. 우리는 지역 기업과 협력하여 혁신 플랫폼을 구축하고 고급 신에너지 액세서리를 생산합니다. 우리는 맞춤형 금속 심층 공정 부품, R&D 지원, 모듈식 제품 설계 및 생산을 포함하여 고품질 제품과 서비스를 제공하는 데 중점을 두고 있습니다.
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전화번호 :+86 15596885501 리사 양
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추가하다:산시성 바오지시 가오신구 가오야 산업단지 28호
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